[9a-Z29-1~14] 17.2 Graphene

[9a-Z29-11] Process development and crystal quality evaluation of graphene/h-BN van der Waals stacked nanocapacitors by transfer/-stack method

〇Hiroki Sugawara¹, Kento Suwa¹, Hirokazu Fukidome¹, Juan Delgado-Notario^1,2, Akira Satou¹, Taiichi Otsuji¹ (1.RIEC, Tohoku Univ., 2.Nanolab, Salamanca Univ.)

Keywords:graphene, van der waals hetero structure

今回開発したプロセス技術を用いて，h-BN/Graphene/h-BN/Graphene/h-BN-DGL構造の試作に成功した．積層の際に懸念される剥離・転写の際の機械的ダメージや熱サイクルに伴う科学的・応力的ダメージによる結晶品質の劣化，及びドーピング効果を，ラマン分光計測により評価した．結果、光学顕微鏡では判別できない内層のグラフェン位置を特定し，上層と下層のグラフェンがほぼ同一の高い結晶品質で積層化できていることが確認できた．