[9a-Z29-1~14] 17.2 グラフェン

[9a-Z29-11] グラフェン/h-BNファンデルワールス積層構造ナノキャパシタの転写スタック法によるプロセス開発と結晶品質評価

〇菅原 大樹¹、諏訪 健斗¹、吹留 博一¹、Delgado-Notario Juan^1,2、佐藤 昭¹、尾辻 泰一¹ (1.東北大　通研、2.サラマンカ大　ナノラボ)

キーワード：グラフェン, ファンデルワールスヘテロ構造

今回開発したプロセス技術を用いて，h-BN/Graphene/h-BN/Graphene/h-BN-DGL構造の試作に成功した．積層の際に懸念される剥離・転写の際の機械的ダメージや熱サイクルに伴う科学的・応力的ダメージによる結晶品質の劣化，及びドーピング効果を，ラマン分光計測により評価した．結果、光学顕微鏡では判別できない内層のグラフェン位置を特定し，上層と下層のグラフェンがほぼ同一の高い結晶品質で積層化できていることが確認できた．