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[9p-Z02-1] 高品質AlN結晶の作製とその紫外線デバイス応用
キーワード:窒化物半導体, AlN, アニール
AlN 膜をRFスパッタ法により成膜(Sp-AlN)して、Face-to-Face配置の高温アニールにより、簡便に低転位密度のAlN膜が作製可能である。Sp-AlNの高温アニールによる結晶性良化メカニズムを明らかにしてきた。AlNのスパッタ堆積条件およびアニール条件の最適化により、貫通転位密度が4 × 107 cm−2を実現した。AlGaN系のLEDにおいても転位密度は発光効率に大きく影響している。