2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

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CS コードシェアセッション » 【CS.6】6.5 表面物理・真空と7.6 原子・分子線およびビーム関連新技術のコードシェアセッション

[9p-Z05-1~14] 【CS.6】6.5 表面物理・真空と7.6 原子・分子線およびビーム関連新技術のコードシェアセッション

2020年9月9日(水) 12:30 〜 16:30 Z05

永村 直佳(物材機構)、光原 圭(立命館大)、滝沢 優(立命館大)

12:30 〜 12:45

[9p-Z05-1] 高エネルギーO2分子ビームに対するCu上グラフェンのバリア性能評価

小川 修一1、Yamaguchi Hisato2、Holby Edward2、山田 貴壽3、吉越 章隆4、高桑 雄二1 (1.東北大、2.Los Alamos Nat. Lab.、3.産総研、4.原子力機構)

キーワード:グラフェン, 超音速分子線, ガスバリア効果

グラフェンは優れた酸素バリア性能を持ち、金属腐食抑制や触媒保護膜への利用が期待されている。一方で高EtO2分子に対するグラフェンの酸化バリア性能は明らかになっておらず、グラフェンを酸化保護膜として長期間利用するために解明が不可欠である。そこで本研究ではO2分子ビームをグラフェン/Cu基板に照射して下地Cuの酸化速度からグラフェンのO2分子バリア性能のEt依存を調べた。