2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » ここまで来た不揮発性メモリ技術 - スピン、相変化、抵抗変化、強誘電体、それぞれの強み

[9p-Z08-1~7] ここまで来た不揮発性メモリ技術 - スピン、相変化、抵抗変化、強誘電体、それぞれの強み

2020年9月9日(水) 13:30 〜 17:20 Z08

中根 了昌(東大)、揖場 聡(産総研)、湯浅 裕美(九大)

16:20 〜 16:50

[9p-Z08-6] 省エネルギー動作に向けた相変化メモリ材料の研究開発

須藤 祐司1、畑山 祥吾1、双 逸1、森 竣祐1 (1.東北大工)

キーワード:相変化メモリ, 不揮発性メモリ

実用PCRAMにはGe-Sb-Te(GST)が用いられ高速動作及び長期繰返し性を実現しているが、反面、高温データ保持性に劣る、他の次世代メモリに比して動作エネルギーが高い、などの課題を残す。我々は、PCRAM材料として、GSTとは逆の抵抗変化を示すCr2Ge2Te6や結晶多形変化により大きな抵抗変化を示すMnTeなどを提案している。本発表では、我々が取り組んでいるそれら材料について、その伝導機構や相変化メカニズム、また、省エネルギー動作性について紹介する。