2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[9p-Z18-1~21] 3.7 レーザープロセシング

2020年9月9日(水) 13:00 〜 19:00 Z18

寺川 光洋(慶大)、長谷川 智士(宇都宮大)、小幡 孝太郎(理研)、中嶋 聖介(静岡大)

14:00 〜 14:15

[9p-Z18-5] アブレーション閾値以下のフェムト秒レーザー照射によるチタン表面光侵入長の減少

〇(D)古川 雄規1,2、井上 峻介1,2、橋田 昌樹1,2 (1.京大化研、2.京大院理)

キーワード:金属, アブレーション, 光学特性

フルーエンスをアブレーション閾値以下としたフェムト秒レーザーパルスを予めチタンに照射すると、数百ピコ秒後に照射される別のレーザーパルスによるアブレーションが抑制されることを発見した。予備照射によるチタン表面の実効的な光侵入長の変化を新奇手法により測定したところ、光侵入長が大きく減少しており、予備的な加熱だけでは説明できない特徴的な電子状態が実現されていることが示唆された。