2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.15 シリコンフォトニクス・集積フォトニクス

[9p-Z19-1~16] 3.15 シリコンフォトニクス・集積フォトニクス

2020年9月9日(水) 13:00 〜 17:30 Z19

岡野 誠(産総研)、庄司 雄哉(東工大)、清水 大雅(農工大)

15:15 〜 15:30

[9p-Z19-9] 金属積層Siプラズモン導波路ヒータの作製と評価

宮内 智弘1、山田 浩史1、清水 大雅1、並木 美太郎1 (1.農工大工)

キーワード:導波路

Si光導波路上に金属を製膜することで、Si中の導波モードと表面プラズモンポラリトンが結合したハイブリッドプラズモンモードが励起される。伝搬損失は金属のジュール損失により熱エネルギーに変換されるため導波路上部を局所的に加熱するヒータに応用可能である。本研究では、Si導波路上へのAu薄膜の作製と光吸収に伴う発熱を通じた強磁性層の磁化反転を目的とし、Si導波路ヒータを設計・試作し、伝搬損失を評価したので報告する。