3:30 PM - 3:45 PM
[9p-Z26-10] Formation of Microstructures for Nano-gap Electrode Patterns Using Ion Milling
Keywords:nanogap
ナノギャップ電極の形成は主に電子ビームリソグラフィ (EBL) と光露光を組み合わせたパターニングを用いており,水に弱い単結晶基板などに対しては光露光が使用できず,デバイス作製工程を工夫する必要がある.そこで,本研究では酸化膜を備えたシリコン基板上に金属膜を均一成膜し,EBLを用いて素子のふち構造を描画し,アルゴンミリングすることで描画時間の短縮や重ね露光が不要な,簡便な電極作製工程を提案する.