2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.1 基礎物性

[9p-Z27-1~24] 11.1 基礎物性

2020年9月9日(水) 13:00 〜 19:45 Z27

尾崎 壽紀(関西学院大)、長尾 雅則(山梨大)、八巻 和宏(宇都宮大)、藤岡 正弥(北大)

17:15 〜 17:30

[9p-Z27-16] NdFeAsO薄膜の電気輸送特性の電子濃度依存性

近藤 圭祐1、陳 明宇1、畑野 敬史1、飯田 和昌1,2、生田 博志1 (1.名大工、2.JST CREST)

キーワード:鉄系超伝導体, 薄膜, 水素ドープ

NdFeAs(O,H)エピタキシャル薄膜の電気輸送特性を測定しNdFeAs(O,F)薄膜の結果と比較した。ドーピング種をFからHに変えることで、より高濃度の電子ドープが可能となり、NdFeAsO薄膜の電気輸送特性の電子濃度依存性を調べることができる。その結果、NdFeAs(O,H)薄膜の不可逆磁場および臨界電流密度は、ともにNdFeAs(O,F)薄膜に比べて大きく向上することがわかった。