16:15 〜 16:30 [13p-A409-11] 高純度オゾンとTMAを用いた室温ALD法により成膜したAl2O3膜の水蒸気透過率 〇阿部 綾香1、萩原 崇之1、亀田 直人1、三浦 敏徳1、森川 良樹1、花倉 満1、中村 健2、野中 秀彦2 (1.(株)明電舎、2.産総研)