09:15 〜 09:30 [14a-A402-2] 高純度化材料を用いたスズ系ペロブスカイト半導体膜の作製とバンド構造制御 〇(M1)大塚 健斗1、Liu Jiewei1、半田 岳人1、中村 智也1、Murdey Richard1、金光 義彦1、若宮 淳志1 (1.京大化研)