10:30 〜 10:45 [14a-A202-7] RFスパッタリング法による BaSi2膜の最適な堆積条件の探索 〇根本 泰良1、佐藤 拓磨1、召田 雅美2、倉持 豪人2、都甲 薫1、末益 崇1 (1.筑波大、2.東ソー)