14:45 〜 15:00 [12p-A403-6] 低触媒体温度でのNH3系ラジカル処理によるSiNx膜のパッシベーション性能への影響 〇住友 誠明1、ヒュン ティ カム トゥ1、大平 圭介1 (1.北陸先端大)