14:30 〜 14:45
▼ [13p-D221-4] The effect of post-deposition annealing on the N-doped LaB6 thin film characteristics
〇(D)KyungEun Park1、Hideki Kamata1、Shun-ichiro Ohmi1 (1.Tokyo Tech.)
KyungEun Park
発表者・著者、共著者
2020年3月13日(金) 13:45 〜 18:30 D221 (11-221)
- 一般セッション(口頭講演)
- | 6 薄膜・表面
- | 6.4 薄膜新材料