一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング
2020年3月13日(金) 09:00 〜 11:30 B410 (2-410)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇(M2)寺澤 英知1,2、佐藤 大輔2、澁谷 達則2、盛合 靖章2、小川 博嗣2、田中 真人2、黒田 隆之助2、坂上 和之1,3、鷲尾 方一1 (1.早大理工総研、2.産総研、3.東大光量子センター)
スケジュール
いいね！
)
09:15 〜 09:30
〇伊藤 佑介1、長藤 圭介1、杉田 直彦1 (1.東大院工)
スケジュール
いいね！
)
09:30 〜 09:45
〇小幡 孝太郎1、カバジェロ ルカス フランセスク1、杉岡 幸次1 (1.理研 光量子)
スケジュール
いいね！
)
09:45 〜 10:00
〇場本 圭一1、谷 峻太郎1、小林 洋平1 (1.東大物性研)
スケジュール
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)
10:00 〜 10:15
〇高橋 孝1,2、谷 峻太郎1、黒田 隆之助2、小林 洋平1,2 (1.東大物性研、2.産総研オペランドOIL)
スケジュール
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10:30 〜 10:45
〇遠藤 翼1、谷 峻太郎1、小林 洋平1 (1.東大物性研)
スケジュール
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10:45 〜 11:00
〇横山 岬1、吉田 剛1、松木 伸行2、大越 昌幸1 (1.防衛大電気電子、2.神大工)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
〇佐々木 翔1、篠原 康1、石川 顕一1 (1.東大院工)
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇吉富 大1、高田 英行1、奈良崎 愛子1、鳥塚 健二1、小林 洋平2 (1.産総研、2.東大物性研)
スケジュール
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