一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料
2020年3月13日(金) 13:45 〜 18:30 D221 (11-221)
土屋 哲男(産総研)、西川 博昭(近畿大)、大友 明(東工大)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:45 〜 14:00
〇(D)Lilin Xie1、Yoshifumi Oshima1 (1.JAIST)
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14:00 〜 14:15
〇(DC)Bishnu Pada Majee1、Ashish Kumar Mishra1 (1.SMST, IIT(BHU))
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14:15 〜 14:30
〇(D)Mohammad Razzakul Islam1、Masahiko Tomitori1 (1.Japan Advanced Institute of Science and Technology)
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14:30 〜 14:45
〇(D)KyungEun Park1、Hideki Kamata1、Shun-ichiro Ohmi1 (1.Tokyo Tech.)
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14:45 〜 15:00
〇(M2)MATIUR MD RAHMAN1、Anissa Adiwena Putri1、Shinya Kato1、Naoki Kishi1、Tetsuo Soga1 (1.Nagoya Inst. of Tech.)
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15:00 〜 15:30
〇植田 研二1 (1.名大院工)
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15:30 〜 16:30
〇大友 明1,2 (1.東工大物質理工、2.元素戦略)
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16:45 〜 17:00
〇佐藤 大知1、横山 竜1、相馬 拓人1、大友 明1,2 (1.東工大、2.元素戦略)
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17:00 〜 17:15
〇Yannan Wang1、Takuto Wakasugi1、Yasushi Hirose1、Yuji Masubuchi2、Yuki Sugisawa3、Daiichiro Sekiba3、Tetsuya Hasegawa1 (1.Univ. of Tokyo、2.Hokkaido Univ.、3.Univ. of Tsukuba)
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17:15 〜 17:30
〇渡邉 脩人1、白石 明浩1、ホ シンイ1、片瀬 貴義1,2、井手 啓介1、松崎 功佑3、平松 秀典1,3、細野 秀雄1,3、神谷 利夫1,3 (1.東工大フロ研、2.JST さきがけ、3.東工大元素セ)
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17:30 〜 17:45
〇岡 大地1、福村 知昭1,2 (1.東北大理、2.東北大AIMR & CRC)
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17:45 〜 18:00
〇山本 裕貴1、河底 秀幸1、福村 知昭1,2 (1.東北大理、2.東北大WPI-AIMR & CRC, CSIS, CSRN)
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18:00 〜 18:15
〇生田 貴大1、堀松 芳樹1、金子 智2,1、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東工大物質理工、2.神奈川県産技総研)
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18:15 〜 18:30
〇篠崎 佳晴1、中西 昴1、土嶺 信男2、金子 智3,1、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東工大物質理工、2.(株)豊島製作所、3.神奈川県産技総研)
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