13:15 〜 14:00
〇本宮 佳典1 (1.東芝)
一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.1 光学基礎・光学新領域
2020年3月14日(土) 13:15 〜 18:15 B408 (2-408)
志村 努(東大)、田中 嘉人(東大)、藤原 英樹(北大)、横山 知大(阪大)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:15 〜 14:00
〇本宮 佳典1 (1.東芝)
14:00 〜 14:15
〇(M1)伊藤 悠1、岩井 俊昭1 (1.東京農工大)
14:15 〜 14:30
〇上杉 祐貴1、アリシェフ アレクサンダー2、浦川 順治2、大森 恒彦2、照沼 信浩2、福田 将史2、大塚 誠也3、小柴 裕也3、鷲尾 方一3、高橋 徹4、保坂 勇志5 (1.東北大、2.高エネ研、3.早大、4.広島大、5.量研)
14:30 〜 14:45
〇(B)浅沼 将人1、藤原 弘康2、飯田 健二3、野田 真史4、矢花 一浩4、八井 崇1 (1.東大院工、2.浜ホト中研、3.分子研、4.筑波大)
14:45 〜 15:00
〇(M1)元 志喜1、田中 嘉人1、福原 竜馬1、坂間 俊亮1、志村 努1 (1.東大生研)
15:00 〜 15:15
〇(D)紫垣 政信1、田中 嘉人1、志村 努1 (1.東大生研)
15:30 〜 15:45
〇増田 圭吾1、篠崎 諒1、一條 瑞樹1、白石 朋1、山根 啓作2、宮本 克彦1,3、尾松 孝茂1,3 (1.千葉大院融合理工、2.北海道大工学研究院、3.千葉大分子キラリティ研究センター)
15:45 〜 16:00
〇白石 朋1、増田 圭吾1、豊田 耕平1,2、宮本 克彦1,2、尾松 孝茂1,2 (1.千葉大工、2.千葉大分子キラリティーセンター)
16:00 〜 16:15
〇川口 晴生1、梅里 慧1、日下 遥絵1、宮本 克彦1,2、尾松 孝茂1,2 (1.千葉大院融合理工、2.千葉大分子キラリティー研)
16:15 〜 16:30
〇田村 守1,2、尾松 孝茂3,4、飯田 琢也1,2 (1.阪府大院理、2.阪府大LAC-SYS研、3.千葉大院工、4.千葉大分子キラリティー研)
16:30 〜 16:45
〇(D)中山 雄太1、中川 望夢1、原田 幸弘1、喜多 隆1 (1.神戸大院工)
16:45 〜 17:00
〇藤原 英樹1、川口 翔平1、米川 大樹1、海住 英生2,3 (1.北海学園大工、2.慶大理工、3.慶大スピンセンター)
17:15 〜 17:30
〇横山 知大1、松浦 朋輝2、垰 幸宏1、石原 一1,2 (1.阪大院基礎工、2.阪府大院工)
17:30 〜 17:45
〇垰 幸宏1、横山 知大1、石原 一1,2 (1.阪大院基礎工、2.大阪府大院工)
17:45 〜 18:00
柳本 宗達1、山本 直紀1、〇三宮 工1,2、秋葉 圭一郎3 (1.東工大物質理工、2.JSTさきがけ、3.農工大工)
18:00 〜 18:15
〇福重 一樹1、川口 洋生1、嶋崎 幸之介1、田嶌 俊之1、Schell Andreas W.2、高島 秀聡1、竹内 繁樹1 (1.京大院工、2.ハノーファー大)
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