一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.15 シリコンフォトニクス・集積フォトニクス
2020年3月14日(土) 15:45 〜 18:00 B508 (2-508)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
15:45 〜 16:00
〇松浦 壮佑1、山作 直貴1、西島 喜明1、岡崎 慎司1、荒川 太郎1 (1.横浜国立大学院工)
スケジュール
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16:00 〜 16:15
〇(M1)吉木 幹人1 (1.東工大)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇(D)Alka Singh1、Tomoki Nishimura2、Hiroaki Satoh2,3、Hiroshi Inokawa1,2,3 (1.GSST, Shizuoka Univ.、2.GSIST, Shizuoka Univ.、3.RIE, Shizuoka Univ.)
スケジュール
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16:30 〜 16:45
〇(M1)宮武 悠人1、関根 尚希1、カシディット トープラサートポン1、高木 信一1、竹中 充1 (1.東大院工)
スケジュール
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17:00 〜 17:15
〇(B)吉田 周平1、上北 崇弘1、清水 大雅1,2 (1.東京農工大工、2.東京農工大 GIR)
スケジュール
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17:15 〜 17:30
〇(M1)岡本 将樹1、北 智洋1、Mendez-Astudillo Manuel1 (1.早稲田大学)
スケジュール
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17:30 〜 17:45
〇槇原 豊1、Eissa Moataz1、御手洗 拓矢1、宮嵜 隆之1、雨宮 智宏1,2、西山 伸彦1,2 (1.東工大工、2.東工大創成院)
スケジュール
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17:45 〜 18:00
〇坂田 晟大1、近藤 圭祐1、馬場 俊彦1 (1.横国大・院工)
スケジュール
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