一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性
09:00 〜 09:15
〇伊藤 聖悟1、西川 勇大2、沼澤 有信1、志村 洋介1,2,3、高橋 尚久4、立岡 浩一1 (1.静大院工、2.静大工、3.静大電研、4.ヤマハ発動機先進材料研)
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09:15 〜 09:30
〇古賀 友也1、沼澤 有信2、志村 洋介1,2,3、高橋 尚久4、立岡 浩一2 (1.静大工、2.静大院工、3.静大電研、4.ヤマハ発動機先進材料研)
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09:30 〜 09:45
〇原 康祐1、瀧澤 周平1、山中 淳二2、黒澤 昌志3,4、有元 圭介1 (1.山梨大クリスタル研、2.山梨大機器分析、3.名大院工、4.名大高等研究院)
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09:45 〜 10:00
〇池本 彰吾1、杉浦 優太朗1、ジャ ヒマンシュ1、大橋 史隆1、久米 徹二1 (1.岐大工)
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10:00 〜 10:15
〇山下 雄大1、Rudi Santbergen2、Olindo Isabella2、都甲 薫1、末益 崇1 (1.筑波大学、2.デルフト工科大学)
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10:15 〜 10:30
〇原 康祐1 (1.山梨大クリスタル研)
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10:30 〜 10:45
〇青貫 翔1、山下 雄大1、都甲 薫1、末益 崇1 (1.筑波大)
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10:45 〜 11:00
〇伯 ゆりか1、佐藤 拓磨1、山下 雄大1、都甲 薫1、末益 崇1 (1.筑波大)
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