一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.2 材料・機器光学
2020年3月15日(日) 09:00 〜 11:45 B414 (2-414)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:00 〜 09:30
〇鶴田 匡夫1 (1.元ニコン)
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09:30 〜 09:45
〇吉尾 里司1、足立 健治1 (1.住友金属鉱山)
スケジュール
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09:45 〜 10:00
〇滝澤 國治1 (1.成蹊大理工)
スケジュール
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10:00 〜 10:15
〇富田 康生1、成田 麻子1、長谷川 脩真1、大島 寿郎2、大土井 啓祐2 (1.電気通信大学、2.日産化学)
スケジュール
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10:30 〜 11:00
〇丸山 晃一1 (1.チームオプト株式会社)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
〇(M2)大越 健太郎1、坂本 盛嗣1、野田 浩平1、佐々木 友之1、坪根 正1、岡本 浩行2、川月 喜弘3、小野 浩司1 (1.長岡技科大、2.阿南高専、3.兵庫県立大)
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇金子 裕亮1、坂本 盛嗣1、野田 浩平1、佐々木 友之1、田中 雅之2、川月 喜弘3、小野 浩司1 (1.長岡技大、2.オプトゲート、3.兵庫県立大)
スケジュール
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11:30 〜 11:45
〇(D)SeongYong Cho1、Hiroyuki Yoshida1、Masanori Ozaki1 (1.Osaka Univ.)
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