一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス
13:45 〜 14:00
〇作田 政大1 (1.東大院工)
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14:00 〜 14:15
〇嶋本 健人1、田中 淳平1、三浦 光平1、桐谷 乃輔1、吉村 武1、芦田 淳1、藤村 紀文1 (1.阪府大工)
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14:15 〜 14:30
〇百貫 将吾1、荒川 太郎1、羽路 伸夫1 (1.横国大院工)
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14:30 〜 14:45
〇金 胄男1,2、中田 勇利1、杉山 睦1,2 (1.東理大理工、2.東理大/総研)
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14:45 〜 15:00
〇(M1)田島 和哉1、IslamMuhammad Monirul1、Jiaqi Liu1、Imane Abdellaoui1、池田 茂2、櫻井 岳暁1 (1.筑波大数理物質、2.甲南大学理工)
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15:00 〜 15:15
〇藤田 貴啓1、張 靈飛1、川﨑 雅司1,2 (1.東大院工、2.理研 CEMS)
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15:15 〜 15:30
〇(P)山神 光平1、池田 啓祐1、ザン ユジュン1,2、保井 晃3、高木 康多3、片瀬 貴義4、神谷 利夫4、和達 大樹1,2 (1.東大物性研、2.兵県大理、3.高輝度光科学研究センター、4.東工大フロ材研)
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15:30 〜 15:45
〇浅沼 周太郎1 (1.産総研)
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