一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.6 超高速・高強度レーザー [12a-B415-1~8] 3.6 超高速・高強度レーザー 2020年3月12日(木) 09:30 〜 11:30 B415 (2-415) 増子 拓紀(NTT)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.6 超高速・高強度レーザー [12p-B415-1~14] 3.6 超高速・高強度レーザー 2020年3月12日(木) 13:15 〜 17:15 B415 (2-415) 田邉 孝純(慶大)、高橋 栄治(理研)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.7 レーザープロセシング [12a-B410-1~8] 3.7 レーザープロセシング 2020年3月12日(木) 09:30 〜 11:45 B410 (2-410) 大越 昌幸(防衛大)、津山 美穂(近畿大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.7 レーザープロセシング [12p-B410-1~16] 3.7 レーザープロセシング 2020年3月12日(木) 13:30 〜 18:00 B410 (2-410) 中村 大輔(九大)、寺川 光洋(慶大)、辻 剛志(島根大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.9 テラヘルツ全般 [12a-B414-1~10] 3.9 テラヘルツ全般 2020年3月12日(木) 09:00 〜 11:45 B414 (2-414) 諸橋 功(情通機構)、瀧田 佑馬(理研)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.14 光制御デバイス・光ファイバー [12a-B406-1~5] 3.14 光制御デバイス・光ファイバー 2020年3月12日(木) 10:30 〜 11:45 B406 (2-406) 渡邉 俊夫(鹿児島大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.14 光制御デバイス・光ファイバー [12p-B406-1~8] 3.14 光制御デバイス・光ファイバー 2020年3月12日(木) 13:15 〜 15:30 B406 (2-406) 田中 洋介(農工大)、李 ひよん(芝浦工大)
一般セッション(口頭講演) | 6 薄膜・表面 | 6.3 酸化物エレクトロニクス [12p-D411-1~14] 6.3 酸化物エレクトロニクス 2020年3月12日(木) 13:45 〜 17:30 D411 (11-411) 新宮原 正三(関西大)、相川 慎也(工学院大)
一般セッション(口頭講演) | 8 プラズマエレクトロニクス | 8.1 プラズマ生成・診断 [12p-A302-1~18] 8.1 プラズマ生成・診断 2020年3月12日(木) 13:15 〜 18:00 A302 (6-302) 富田 健太郎(九大)、中川 雄介(首都大)、田中 学(九大)
一般セッション(口頭講演) | 8 プラズマエレクトロニクス | 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理 [12p-A205-1~15] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理 2020年3月12日(木) 13:45 〜 18:00 A205 (6-205) 太田 貴之(名城大)、深沢 正永(ソニーセミコンダクタソリューションズ)、岩瀬 拓(日立製作所)