一般セッション(口頭講演) | 2 放射線 | 2.1 放射線物理一般・検出器基礎 [13a-D209-1~8] 2.1 放射線物理一般・検出器基礎 2020年3月13日(金) 09:30 〜 11:30 D209 (11-209) 越水 正典(東北大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.3 情報フォトニクス・画像工学 [13p-B415-1~14] 3.3 情報フォトニクス・画像工学 2020年3月13日(金) 13:15 〜 17:00 B415 (2-415) 中村 友哉(東工大)、信川 輝吉(NHK技研)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.6 超高速・高強度レーザー [13a-B415-1~5] 3.6 超高速・高強度レーザー 2020年3月13日(金) 09:00 〜 10:15 B415 (2-415) 柏木 謙(産総研)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.7 レーザープロセシング [13a-B410-1~9] 3.7 レーザープロセシング 2020年3月13日(金) 09:00 〜 11:30 B410 (2-410) 奈良崎 愛子(産総研)、伊藤 佑介(東大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.9 テラヘルツ全般 [13a-B508-1~10] 3.9 テラヘルツ全般 2020年3月13日(金) 09:00 〜 11:35 B508 (2-508) 林 伸一郎(情通機構)、有川 敬(京大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.9 テラヘルツ全般 [13p-B508-1~21] 3.9 テラヘルツ全般 2020年3月13日(金) 13:15 〜 19:00 B508 (2-508) 坪内 雅明(量研機構)、永井 正也(阪大)、南 康夫(徳島大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.11 フォトニック構造・現象 [13p-B401-1~9] 3.11 フォトニック構造・現象 2020年3月13日(金) 13:00 〜 15:30 B401 (2-401) 角倉 久史(NTT)、高橋 和(大阪府立大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学 [13a-B409-1~10] 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学 2020年3月13日(金) 09:00 〜 11:45 B409 (2-409) 久保 若奈(農工大)、川田 善正(静大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学 [13p-B409-1~17] 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学 2020年3月13日(金) 13:15 〜 18:15 B409 (2-409) 岩長 祐伸(物材機構)、梶川 浩太郎(東工大)、冨田 知志(東北大)
一般セッション(口頭講演) | 6 薄膜・表面 | 6.3 酸化物エレクトロニクス [13p-D411-1~16] 6.3 酸化物エレクトロニクス 2020年3月13日(金) 13:45 〜 18:15 D411 (11-411) 小塚 裕介(物材機構)、福村 知昭(東北大)