[12a-B410-1~8] 3.7 レーザープロセシング

[12a-B410-1] 薄膜のシングルショットレーザー干渉加工による電子ホログラムの作製

〇福島 涼太^1,2、上杉 祐貴²、齋藤 晃³、佐藤 俊一² (1.東北大院工、2.東北大多元研、3.名古屋大未来研)

キーワード：干渉加工、フェムト秒レーザー、電子ホログラム

電子顕微鏡用の電子位相ホログラムを作製するためにフェムト秒レーザーを用いた二光束干渉加工光学系を開発した。この光学系ではシングルショットで厚さ数十 nmの薄膜にホログラフィック加工を施すことができる。使用波長を従来の1040 nmから520 nmに短波長化することで加工の高分解能化を図り，電子ホログラムの回折格子間隔を1.5 μmから0.75 μmにすることができた。講演では材料選定や加工条件の探索の結果についても報告する。