2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[12a-B410-1~8] 3.7 レーザープロセシング

2020年3月12日(木) 09:30 〜 11:45 B410 (2-410)

大越 昌幸(防衛大)、津山 美穂(近畿大)

10:00 〜 10:15

[12a-B410-3] レーザー直接描画法によるグラフェンハイブリッド構造の形成とセンサー応用

渡辺 明1、Rahman Ashiqur1,2、Cai Jinguang3、Aminuzzaman Mohammod4 (1.東北大多元研、2.American Int. Univ. Bangladesh、3.Inst. Mat., China Acad. Eng. Phys.、4.Universiti Tunku Abdul Rahman)

キーワード:レーザー直接描画法、グラフェンハイブリッド構造、センサー

酸化グラフェン(GO)は水や極性溶媒に分散性を示すことからウェットプロセスによる製膜が可能であり,レーザー誘起還元により還元型酸化グラフェン(rGO)の導電性微細パターンを形成することができる。本研究では,GO/酸化銅ナノロッド(CuO NRs)ハイブリッド膜にレーザー直接描画法を適用して導電性のrGO/Cuハイブリッド構造からなるアンテナパターンを形成し,種々溶媒の誘電率の違いに感応するアンテナ型センサーへの応用を検討した。