[12a-B410-1~8] 3.7 レーザープロセシング

[12a-B410-8] 光化学改質法により形成した耐摩耗性シリコーン塗膜の分子構造分布解析

〇小島 洋治¹、野尻 秀智²、大越 昌幸³ (1.広島県総研、2.レニアス、3.防衛大電気電子)

キーワード：光化学改質法、顕微赤外分析

光化学改質法により形成した塗膜表面の分子構造分布を顕微赤外ATR法により解析した。メッシュマスクを介してF₂レーザーによりシリコーン塗膜の表面処理を行った試料について、赤外マッピング分析を行い、作製条件が異なる試料間における光改質効果，分布を比較した。改質による赤外スペクトル形状の変化から改質効果の評価が可能であり、本手法により改質樹脂表面における改質の程度及びその分布を明らかにすることができた。