[12a-D419-1~12] 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

[12a-D419-7] Direct Photo-patterning Process for Solution-processed Metal Oxide TFT

〇Masashi Miyakawa¹, Mitsuru Nakata¹, Hiroshi Tsuji¹, Yoshiki Nakajima¹ (1.NHK STRL)

Keywords:Solution-processed oxide, Direct patterning, Soluition process

溶液プロセスを用いた塗布型酸化物TFTは、大気下で簡便に作製でき、大面積化、低コスト化といった点で有望である。TFT作製には、半導体薄膜のパターニングが必要であるが、溶液プロセスにおいても、煩雑なリソグラフィプロセスが一般的である。これまでに、パターニングプロセスを簡略化できる、紫外光照射による水系半導体前駆体溶液を用いた塗布膜へのダイレクト光パターニング技術を提案した。今回、さまざまな前駆体溶液への適用性検討を行い、有効性を評価したので報告する。