2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

[12p-A202-1~13] 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

2020年3月12日(木) 13:15 〜 16:45 A202 (6-202)

森 伸也(阪大)、蓮沼 隆(筑波大)

16:00 〜 16:15

[12p-A202-11] 3次元デバイス構造のもとでの単原子層MoS2チャネルのモンテカルロシミュレーションⅡ

岡田 崇太1、吉田 勝尚1、佐野 伸行1 (1.筑波大数理)

キーワード:モンテカルロシミュレーション、単原子層、クーロン相互作用

単原子層MoS2のモンテカルロ(MC)シミュレータに対して,エネルギー保存の観点からクーロン相互作用の高精度な導入について検討を行った.外場のない閉じた系との比較から,フォノン散乱によるエネルギー散逸の存在する開放系では,エネルギー保存則が破れている場合においても数値的に安定した結果を導いてしまうことが考えられる.2次元材料においては,膜厚に対してクーロン相互作用が非常に鋭敏になることが示唆される.