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一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[12p-A205-1~15] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

2020年3月12日(木) 13:45 〜 18:00 A205 (6-205)

太田貴之(名城大)、深沢正永(ソニーセミコンダクタソリューションズ)、岩瀬拓(日立製作所)

15:45 〜 16:00

△ [12p-A205-8] パルス変調容量結合プラズマにおけるキャピラリープレート近傍のチャージ量絶対評価

〇(D)森山誠¹、中原尚哉¹、三矢晶洋¹、鈴木陽香¹、豊田浩孝¹ (1.名大工)

キーワード：容量結合プラズマ、チャージアップ