[12p-A302-1~18] 8.1 Plasma production and diagnostics

[12p-A302-14] Planer Thermal Plasma Generation by Diode Rectified AC Arc

〇Manabu Tanaka¹, Yuta Kugimiya¹, Hiroki Maruyama¹, Takayuki Watanabe¹, Tsugio Matsuura² (1.Kyushu Univ., 2.Taso Arc Corp.)

Keywords:thermal plasma, diode-rectification, high-speed camera

ダイオード整流を用いた多電極交流アークを発生させることで，革新的な長尺熱プラズマ場を構築することを目的とした．熱プラズマは，高温，高エンタルピー，高化学活性などの特長を有することから，様々な材料プロセッシングへの応用が期待されている．しかし，従来の熱プラズマ発生手法は，数mmから数cm程度の小さな領域にしか発生できない点熱源（0次元）である点が問題であった．そこで本研究では，数百A級の大電流をミリ秒オーダーでダイオード整流することで，新規な交流アーク発生手法を確立した．