The 67th JSAP Spring Meeting 2020

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.1 Plasma production and diagnostics

[12p-A302-1~18] 8.1 Plasma production and diagnostics

Thu. Mar 12, 2020 1:15 PM - 6:00 PM A302 (6-302)

Kentaro Tomita(Kyushu Univ.), Nakagawa Yusuke(首都大), Manabu Tanaka(Kyushu Univ.)

2:45 PM - 3:00 PM

[12p-A302-7] Correlation of OH Radical and Ashing Uniformity in Microwave Excited Water Vapor Plasma Ashing

Takeshi Aizawa1, Taishin Shimada1, Tasuku Sakurai1, Tatsuo Ishijima1, Yasunori Tanaka1, Yoshihiko Uesugi1, Yusuke Nakano1, Itsuki Inoue2, Ryo Ono2 (1.Kanazawa Univ., 2.Univ. Tokyo)

Keywords:Microwave, Ashing, Optical emission spectroscopy

新規レジスト除去の手法として「水プラズマアッシング法」の研究開発が進められており,高速なフォトレジスト除去およびイオン注入されたレジスト除去が可能である。レジスト除去の均一性向上の課題に対し,マイクロ波の変調条件と照射距離を変更してレジスト除去速度の均一性を評価し,ラジカル発光強度の空間分布との相関について検討した。

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