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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[12p-B410-1~16] 3.7 レーザープロセシング

2020年3月12日(木) 13:30 〜 18:00 B410 (2-410)

中村大輔(九大)、寺川光洋(慶大)、辻剛志(島根大)

15:30 〜 15:45

△ [12p-B410-8] パルスレーザーアブレーション過程で複合ナノ粒子の凝集に対する衝撃波の効果

〇(DC)片山慶太¹、福岡寛²、吉田岳人³、青木珠緒¹、梅津郁朗¹ (1.甲南大理工、2.奈良高専、3.阿南高専)

キーワード：レーザーアブレーション、ナノ粒子、衝撃波