The 67th JSAP Spring Meeting 2020

Presentation information

Oral presentation

9 Applied Materials Science » 9.3 Nanoelectronics

[12p-D311-1~7] 9.3 Nanoelectronics

Thu. Mar 12, 2020 1:30 PM - 4:00 PM D311 (11-311)

Katsuhiko Nishiguchi(NTT), Yasuhisa Naitoh(AIST)

3:15 PM - 3:30 PM

[12p-D311-5] Pt-based Nanogap Electrodes using a High-k Insulator with a Bottom-Gate Structure

〇(M1)Taisei Igakura1, Phan Trong Tue1, Yutaka Majima1 (1.Tokyo Tech)

Keywords:quantum device, bottom-gate, high-K

本研究では、分子のエネルギーレベルを効果的に変調できる大きなゲート容量(Cg)を得ることを目的に、High-k誘電体をゲート絶縁体として用いたボトムゲート構造の作製を行った。その内容について報告する。