2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[12p-D411-1~14] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2020年3月12日(木) 13:45 〜 17:30 D411 (11-411)

新宮原 正三(関西大)、相川 慎也(工学院大)

16:15 〜 16:30

[12p-D411-10] Ir/Ta2O5スパッタ膜の熱刺激電流測定

三沢 源人1、島 久1、内藤 泰久1、秋永 広幸1 (1.産総研ナノエレ)

キーワード:酸化タンタル、熱刺激電流、トラップ準位

Ta2O5は誘電体として広く用いられてきたが、抵抗変化素子としても多様な利用法が実用に供されつつある。エレクトロニクスデバイスとして用いる際に、トラップ準位を定量的に評価することは重要である。デバイス動作の理解やモデリングのためにはこの情報が欠かせない。Ta2O5スパッタ膜について光励起による熱刺激電流(TSC)を複数の昇温速度で測定し、ピーク温度法によりトラップ深さを求めた。