2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[12p-D411-1~14] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2020年3月12日(木) 13:45 〜 17:30 D411 (11-411)

新宮原 正三(関西大)、相川 慎也(工学院大)

14:15 〜 14:30

[12p-D411-3] 金属/Nb:SrTiO3 ショットキー接合の電流-電圧特性と水素不純物添加効果

〇(B)村上 大晟1,2、保坂 拓巳1,2、大澤 健男2、大垣 武2、上田 茂典2、石垣 隆正1、大橋 直樹2 (1.法政大、2.物材機構)

キーワード:抵抗変化デバイス

遷移金属酸化物を利用した抵抗可変メモリーの機構を調べるために、素子への水素不純物添加効果を検証した。AuやPt電極とNb:SrTiO3からなるショットキー接合において、高周波プラズマ処理を実施すると、界面近傍数ナノメートルの電子状態が変化することを軟X線および硬X線光電子分光にて観察した。その結果、抵抗スイッチング特性が劇的に変化し、ショットキー障壁や界面状態に水素不純物効果を見出した。