[12p-PA2-1~4] 7 Beam Technology and Nanofabrication

△ [12p-PA2-3] Sputtering of Ag and Au Nanoparticles bombarded with 5 to 100 keV Ar Ions

〇Hitomi Mizutani¹, Koichi Ozaki¹, Katsumi Takahiro¹, Fumitaka Nishiyama² (1.Kyoto Inst. Tech., 2.Hiroshima Univ.)

Keywords:ion beam, nanoparticle, sputtering

本研究では，基板上のAgおよびAuナノ粒子（NPs）に対して，5–100 keVのAr⁺照射を行い，そのスパッタリング収率を求めた．AgおよびAu NPsに対して5–30 keV Ar⁺照射を行った結果，スパッタリング収率の粒径依存性は，いずれの照射エネルギーについてもイオン飛程の1.5倍程度の粒径で極大となった．この極大値は、バルクにはない、ナノ粒子に特異的な傾向である。講演では，AgおよびAu NPsのスパッタリング収率のエネルギー依存性についても議論する．