[12p-PA5-1~34] 12.4 Organic light-emitting devices and organic transistors

[12p-PA5-6] Top-Emission OLED with ITO Top Electrode Films Deposited by a Low-Damage Sputtering Method

〇Yoji Yasuda¹, Shin-ichi Kobayashi¹, Takayuki Uchida¹, Yoichi Hoshi¹ (1.Tokyo Polytechnic Univ.)

Keywords:OLED, Low-damage sputtering

我々は有機EL素子の上部電極膜をスパッタ法で堆積する技術の開発に取り組んできた。その結果、上部電極膜のスパッタ堆積時に基板に入射する高エネルギー粒子によるダメージを抑制することで発光特性が改善すること、電極膜堆積時の基板温度が素子特性に大きな影響を与えることを明らかにしてきた。本研究では、ITO上部電極膜を対向ターゲット式低ダメージスパッタ法により堆積しトップエミッション型OLED素子を実現した。さらに、発光特性の改善のため基板に70-110℃の範囲で大気アニール処理を施した結果を報告する。