2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

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[13a-PA3-1~35] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2020年3月13日(金) 09:30 〜 11:30 PA3 (第3体育館)

09:30 〜 11:30

[13a-PA3-18] ICP支援スパッタ法によるAl-doped ZnO薄膜堆積に関する研究

今泉 悟1、中村 忠1、沖村 邦雄1 (1.東海大院工)

キーワード:透明導電膜、Alドープ酸化亜鉛

Alドープ酸化亜鉛薄膜(AZO)は,透明導電膜として用いられている酸化インジウムスズ(ITO)の代替材料や太陽電池用透明電極としての利用など広く応用が期待されている.作製にはRFマグネトロンスパッタ等が用いられるが,径方向での膜厚,抵抗率不均一性が課題とされている.そこで本研究では,内部コイル型ICP支援スパッタ法を導入することで,AZO薄膜の径方向不均一性の改善を図った.