[13a-PA3-1~35] 6.3 Oxide electronics

[13a-PA3-27] Epitaxial thin film growth of H^--ion conducting La₂LiHO₃

〇(D)Yuki Sasahara¹, Takashi Hirose¹, Naoki Matsui¹, Takuya Kakinokizono¹, Kota Suzuki^1,2,3, Masaaki Hirayama^1,2, Ryo Nakayama¹, Kazunori Nishio¹, Ryota Shimizu^1,3, Ryoji Kanno^1,2, Genki Kobayashi^4,5, Taro Hitosugi¹ (1.Tokyo Tech, 2.IIR, 3.JST-PRESTO, 4.IMS, 5.SOKENDAI)

Keywords:Hydride ion, Oxyhydride, Epitaxial thin film

ヒドリドイオン(H^-)はその強力な還元特性から次世代電気化学デバイスへの応用が期待されている。最近、K₂NiF₄型酸水素化物におけるH^-伝導が見出され、H^-拡散経路の解明に向けた研究が活発化しているが、これまでに単結晶やエピタキシャル薄膜の作製報告がないため、その実験的な確証は得られていない。そこで本研究では、H^-伝導性酸水素化物のLa₂LiHO₃に着目し、そのエピタキシャル成長を試みた。