[13a-PA3-1~35] 6.3 酸化物エレクトロニクス

[13a-PA3-27] H^-イオン導電体La₂LiHO₃のエピタキシャル薄膜成長

〇(D)笹原 悠輝¹、廣瀬 隆¹、松井 直喜¹、柿木園 拓矢¹、鈴木 耕太^1,2,3、平山 雅章^1,2、中山 亮¹、西尾 和記¹、清水 亮太^1,3、菅野 了次^1,2、小林 玄器^4,5、一杉 太郎¹ (1.東工大物質理工、2.東工大科創院、3.JSTさきがけ、4.分子研、5.総研大)

キーワード：ヒドリドイオン、酸水素化物、エピタキシャル薄膜

ヒドリドイオン(H^-)はその強力な還元特性から次世代電気化学デバイスへの応用が期待されている。最近、K₂NiF₄型酸水素化物におけるH^-伝導が見出され、H^-拡散経路の解明に向けた研究が活発化しているが、これまでに単結晶やエピタキシャル薄膜の作製報告がないため、その実験的な確証は得られていない。そこで本研究では、H^-伝導性酸水素化物のLa₂LiHO₃に着目し、そのエピタキシャル成長を試みた。