2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.5 デバイス/配線/集積化技術

[13p-A305-1~13] 13.5 デバイス/配線/集積化技術

2020年3月13日(金) 13:45 〜 17:45 A305 (6-305)

中塚 理(名大)、遠藤 和彦(産総研)

14:30 〜 15:00

[13p-A305-3] [第11回シリコンテクノロジー分科会論文賞受賞記念講演] ナノスケール・シリコンにおける電子・電子散乱を利用したエレクトロン・アスピレーター

小野 行徳1,2、フィルダス ヒンマ2、渡邊 時暢1、堀 匡寛1,2、モラル ダニエル1,2、高橋 庸夫3、藤原 聡4 (1.静大電研、2.静大院創造、3.北大院情報、4.NTT物性基礎研)

キーワード:シリコン、トランジスタ、電子・電子散乱

MOSトランジスタでは、電子の運動量とエネルギーはドレイン端で不可避的に散逸してしまい、このことがトランジスタの駆動力とエネルギー効率を律速する本質的な問題となっている。ここでは、このような原理的限界を打破するために、付加的な電源電圧なしにトランジスタ電流を増幅できる(駆動力を向上させることができる)ナノスケールMOSデバイス:エレクトロン・アスピレーターを提案し、その基本動作を実証した。