[13p-A409-1~14] 12.4 有機EL・トランジスタ

[13p-A409-11] 高純度オゾンとTMAを用いた室温ALD法により成膜したAl₂O₃膜の水蒸気透過率

〇阿部 綾香¹、萩原 崇之¹、亀田 直人¹、三浦 敏徳¹、森川 良樹¹、花倉 満¹、中村 健²、野中 秀彦² (1.(株)明電舎、2.産総研)

キーワード：バリア性、室温ALD、高純度オゾン

明電舎製ピュアオゾンジェネレーターから～100％-O₃を供給し、O₃のみを酸化源とした室温ALD法 (Pure-Ozone-ALD:PO-ALD)をTMAに適用し、PENフィルム上にAl₂O₃膜の成膜を試みた。
当日はそのフィルムの水蒸気透過率(WVTR)や膜質について議論する。