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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.12 ナノ領域光科学･近接場光学

[13p-B409-1~17] 3.12 ナノ領域光科学･近接場光学

2020年3月13日(金) 13:15 〜 18:15 B409 (2-409)

岩長祐伸(物材機構)、梶川浩太郎(東工大)、冨田知志(東北大)

14:15 〜 14:30

[13p-B409-5] 位置制御されたPbS量子ドットとメタマテリアルとの組み合わせによる発光特性制御

〇(M1)杉崎俊太¹、杉本卓也¹、池田航介¹、向井剛輝¹ (1.横浜国大院理工)

キーワード：ナノフォトニクス、量子ドット、メタマテリアル