[13p-D305-1~16] 9.2 ナノ粒子・ナノワイヤ・ナノシート

[13p-D305-7] 1-ヘキセンを用いた高多孔率ポーラスシリコンの超臨界CO₂流体中のヒドロシリル化

〇(B)田倉 直人¹、金 蓮花¹、近藤 英一¹、ジェローズ ベルナール² (1.山梨大工、2.名古屋大理)

キーワード：ポーラスシリコン、超臨界流体

本研究では，PSiによる高効率・高安定な発光を得るために，多孔率80%のPSi層に対し，超臨界CO₂流体を用いた乾燥及びヒドロシリル化を行い，その結果について報告する．