13:30 〜 15:30
[13p-PA3-4] Cat-CVDによるMAPbI3上へのドープSi膜の堆積
キーワード:ペロブスカイト太陽電池、Cat-CVD、アモルファスシリコン
ペロブスカイト太陽電池の電子輸送層への使用を目的に、MAPbI3上へのCat-CVDでのn-a-Si製膜を試みた。透過率スペクトルにおいて、n-a-Si堆積時の最終到達温度が136 °Cでであった場合には、MAPbI3の光学特性が保たれることを確認した。一方、到達温度がこれより高い試料においては、波長>500 nmに新たな透過成分が出現することを見出した。