2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[13p-PA8-1~20] 6.2 カーボン系薄膜

2020年3月13日(金) 16:00 〜 18:00 PA8 (第3体育館)

16:00 〜 18:00

[13p-PA8-18] 高効率太陽電池へ向けた新規な不純物ドープシリコン添加アモルファスカーボン半導体薄膜の開発

〇(B)近藤 文太1、楢木野 宏2、本多 謙介2 (1.山口大理、2.山口大院創成科学)

キーワード:アモルファスカーボン、半導体薄膜、不純物ドープ

高効率多接合型太陽電池の実現に向けて,我々は窒素ドープn型Si添加アモルファスカーボン半導体薄膜とp-Siから構成されるヘテロ接合太陽電池の作製を試みた.この研究では,変換効率 (短絡電流密度)を改善するためにキャリアの活性化が期待できるリン,硫黄,ビスマス原子を用いて,新しい不純物ドープn型Si添加アモルファスカーボン薄膜を開発し,高性能化を図った.その結果,ドーパントに硫黄を適用することにより,窒素を用いた場合よりも変換効率の向上に成功した.