2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

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シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 低温(常温)接合界面及び薄膜成長界面ナノ・キベルネテス(舵手)

[14a-A201-1~8] 低温(常温)接合界面及び薄膜成長界面ナノ・キベルネテス(舵手)

2020年3月14日(土) 09:00 〜 12:15 A201 (6-201)

西川 博昭(近畿大)、山本 哲也(高知工科大)

11:15 〜 11:30

[14a-A201-6] 脆性材料の常温衝撃固化現象とセラミックスコーティングへの応用

明渡 純1 (1.産総研)

キーワード:セラミックコーティング、常温衝撃固化現象、エアロゾルデポジション

エアロゾルデポジション(AD)法やコールドスブレー(CS) 法などの純粋な衝突圧力や衝撃力を利用するコーティングプロセスが注目されている。微粒子や超微粒子を数百m/s以上に加速し,基板に衝突させ,純粋な機械エネルギーを供給するだけで緻密で密着力の高い膜が形成できる。このようなプロセスは、古くは1970年代にスペースデブリの研究に利用された静電微粒子加速装置を用いたコーティング手法として始まった。これらプロセスに共通する、微粒子、超微粒子が高速で衝突し、高い圧力下で原料粒子結晶が微細化され固化する現象を、我々は「常温衝撃固化現象(RTIC)」と呼んでいる。ここでは、このようなプロセスの歴史と常温衝撃固化現象に関連する類似現象との関係、応用技術としての展開を事業化事例とともに紹介する。