The 67th JSAP Spring Meeting 2020

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.2 Exploratory Materials, Physical Properties, Devices

[14a-A202-1~8] 13.2 Exploratory Materials, Physical Properties, Devices

Sat. Mar 14, 2020 9:00 AM - 11:00 AM A202 (6-202)

Kosuke Hara(Univ. of Yamanashi)

9:30 AM - 9:45 AM

[14a-A202-3] Synthesis of crack-free Mg2Si crystal by thermal treatment under inert gas atmosphere

Issei Horiba1, Kazuhiro Gotoh1, 〇Yasuyoshi Kurokawa1, Takashi Itoh1, Noritaka Usami1 (1.Nagoya Univ.)

Keywords:silicide, thermoelectric material, energy harvesting

Mg2Siは600~900 Kの温度域で良好な熱電特性を持ち,構成元素が豊富に存在し,軽量なn型熱電材料として有望である.我々は,MgとSi基板を不活性ガス雰囲気中で熱処理することでMg2Si結晶を得ることに成功したが,クラックの形成が課題であった.本研究では,薄型結晶Si基板(厚さおよそ55 μm)を用いてMg2Si結晶の作製を試みた.その結果,10時間の熱処理後,Si基板が全てMg2Siに置換され,クラックフリーのMg2Si結晶を得ることに成功した.