[14a-A305-1~11] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[14a-A305-11] Fundamental Experiment of Particle Behavior in Minimal Fab

〇Takashi Yajima^1,2, Sommawan Khumpuang^1,2, Hitoshi Maekawa^1,2, Shiro Hara^1,2 (1.AIST, 2.MINIMAL)

Keywords:minimal fab

ミニマル装置の局所クリーン化技術の基礎となる、環境中の微粒子がウェハに吸着する現象についての基礎的な実験を行った。微粒子濃度が異なる空気中に暴露したウェハ上に付着する微粒子数の測定および、ウェハ洗浄を一般環境とクリーン環境で行い、洗浄後のウェハ上の微粒子数を測定した。その結果、空気中で短時間では微粒子の付着はさほど多くないが、洗浄槽に取り込まれる微粒子がウェハ上に付着する影響が大きいことが分った。