2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[14a-A305-1~11] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2020年3月14日(土) 09:00 〜 12:00 A305 (6-305)

角嶋 邦之(東工大)

11:45 〜 12:00

[14a-A305-11] 局所クリーン化のための微粒子に関する基礎実験

谷島 孝1,2、クンプアン ソマワン1,2、前川 仁1,2、原 史朗1,2 (1.産総研、2.ミニマルファブ推進機構)

キーワード:ミニマルファブ

ミニマル装置の局所クリーン化技術の基礎となる、環境中の微粒子がウェハに吸着する現象についての基礎的な実験を行った。微粒子濃度が異なる空気中に暴露したウェハ上に付着する微粒子数の測定および、ウェハ洗浄を一般環境とクリーン環境で行い、洗浄後のウェハ上の微粒子数を測定した。その結果、空気中で短時間では微粒子の付着はさほど多くないが、洗浄槽に取り込まれる微粒子がウェハ上に付着する影響が大きいことが分った。